20世纪70年代
第三代：真空热蒸发膜
采用的是真空热蒸发工艺，将金属铝加热蒸发后，附着于基材上，达到隔热效果，具备持久的隔热性，其有两大明显的弱点：一是清晰度较差。真空热蒸发的铝分子颗粒较大，且自然蒸发附着不均匀，导致容易发生光线的漫反射，清晰度差，影响视野的舒适性。另一大显著的弱点是反光高。其隔热主要依赖并取决于高反光。
20世纪90年代
第四代：金属磁控溅射膜
产生于20世纪90年代末期，它将是镍、银、钛、金、钯等高级宇航合金材料，采用先进的高速磁控溅射设备，利用电厂和磁场原理，将原子级别的金属粒子高速、均匀地溅射于光学级的PET基材上。磁控溅射工艺的产品除具备很好的金属质感、稳定的隔热性能外，还具备其他工艺所无法达到的清晰度及持久的色泽。
